大日本印刷(DNP)は12日、EUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィに対応した、2nm世代以降のロジック半導体フォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成功したと発表した。

キヤノンが10月末に発売した「SELPHY ...

県立美術館も同様の方向で、館同士の作品の貸し借りの際の撮影可否の調査も普通になっているとか。著作権者らの意向で全て不可の場合は、展覧会を象徴する代替の撮影スポットを設けるなどするらしい。

【プレスリリース】発表日:2024年12月12日EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始大日本印刷株式会社（本社:東京 ...

大日本印刷 (DNP)は12月12日、EUVリソグラフィに対応した2nmプロセス以降の微細ロジックプロセス向けフォトマスク上に求められる微細なパターンを解像することに成功したことを発表した。

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