【プレスリリース】発表日:2024年12月12日EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始大日本印刷株式会社（本社:東京 ...